原子吸收分析仪操作步骤
（一）因水溶性及固体废弃物的基质复杂性及变异性，通常必须经过适当之前处理。固体、污泥及悬浮物质在分析前必须先加以溶解，此程序随因待测分析的金属及样品特性的不同而异。
（二）所有原子吸收光谱需执行适当的背景校正。
（三）由于不同厂牌及机型的原子吸收光谱仪会有差异，详细的使用说明无法格式化以适用于每一部仪器，因此分析人员在使用仪器时必须遵循该厂商的使用说明书。下列为操作应当注意事项：
     1.选择适当的灯管后，通常需要先让灯管预热 15 分钟。
     2.可利用这段期间调整仪器，将单光器调至正确的波长，选择适当的单光器狭缝宽度，并依照厂商的建议调整电流。
     3.点火并调节燃料及氧化剂的流量，调整燃烧头及喷雾器的流速以达到最大的吸收及稳定度，保持光度计的平衡。
     4.量测一系列待测元素的标准溶液，绘制吸光度对应浓度建立检量线。
     5.吸入样品溶液并直接读出或由检量线测定其浓度。每分析一个或一系列样品时须同时量测一次标准溶液。
（四）检量线制作与确认
     1.对于非直接读出浓度的仪器，则制作一涵盖适当浓度范围的检量线。通常亦即制备可产生 0.0 到 0.7 吸收度的空白及标准溶液。
     (1)每分析一批次样品时，需制备新的检量线标准溶液。若以当天制备之检量线确认溶液（以下简称 ICV）测试结果在可接受的范围，毋需每天制备检量线标准溶液，只要经由当天制备之 ICV 确认后即可使用。若 ICV 超过可接受的规范，必须重新制备新的检量线标准溶液并重新校正仪器。检量线制备须有一个空白溶液和至少五种浓度的检量线标准溶液，此五种浓度须落在校正曲线直线区域的适当范围内。
     (2)配制标准溶液所使用的酸或酸组合的种类及其浓度应与样品处理后之结果相同。
     (3)先以空白溶液开始，再由低浓度至高浓度吸取标准品溶液，并记录其读值。
     (4)重复多次吸取标准溶液与样品，以确保能得到每一溶液之可信赖的平均读值。
     2.检量线必须是线性且相关系数 R 值至少大于 0.995以上。
     (1)完成检量线制作后，必须以检量线空白及在中间浓度附近的 ICV 确认检量线。ICV 之测值偏差必须在 10 ％ 以内，且检量线空白所含的待测物浓度不能高于 MDL，此检量线才可认为有效。若标准曲线在指定范围内无法被确认，则应找出原因并在样品分析前重新校正仪器。
     (2)每批次分析结束时 / 或每隔 10 个样品后，检量线必须以检量线空白及检量线中间浓度附近的 CCV 确认。CCV 之测值偏差必须在 10 ％ 以内，且检量线空白所含的待测物浓度不能高于 MDL，此检量线才可认为有效。若 CCV 测值偏差大于 10 ％ 以上，则应停止分析样品，找出原因并在样品分析前重新校正仪器，且在最后一个可接受的 CCV 之后的所有样品必须重新分析。
     3.重复测量标准溶液的浓度，取其平均值，两次测值的相对差异百分比在 10 ％以内。
     4.若进行微量分析时，检量线第一点的浓度必须在实验室可定量的范围浓度，假如样品浓度值低于检量线最低点的浓度，此报告只能当成估计值。
原子吸收分析仪操作要点
一般火焰式原子吸收光谱仪之操作参数包括以下五点：
    (1)火焰高度的调整：
    每一个元素最佳的反应高度并不一样，故必须调整其高度以达到最佳吸收度。图二为铬、镁、银在不同火焰高度吸收度差异。
    (2)燃料比例：
    每一个元素的操作灵敏度受气燃比之影响相当大，某些元素可能适合氧化焰(Lean，因二次空气的供给，燃烧完全，焰温较高，置于此焰层内之金属多被氧化成金属氧化物。)，但有些可能适合还原焰(Rich，此焰层能使含氧化合物还原，例如重金属氧化物，置于此焰中灼烧，会失去其所含的氧，被还原成金属。)。图三为铬在不同火焰操作条件下其吸收度之差异
    (3)灯管电流：
电流的大小也会影响吸收度。如果灯管的电流太小，则吸收度会下降，但如果太高则可能因自身吸收效应(Self Absorption Effect)使其吸收度下降。图四为镁在不同灯管电流操作下，吸收度之差异性比较。（电流太强，会导致灯管寿命降低）
    (4)狭缝宽度：
    狭缝太小则使进入的光能量太弱，使吸收度下降，太宽则使进入的光线太多，易造成干扰，故于分析前可参考操作手册之建议条件或是自行测试选择较适当的狭缝宽度。图五为镍在不同狭缝宽度设定下其吸收度之差异性比较。
    (5)波长选择：
    元素吸收灵敏度与所选择的波长有很大的关系，通常每一个元素多有数个波长可供选择，可依据分析的需求选择适当的波长。
（五）影响仪器之干扰
    原子吸收光谱法可能面临的干扰可概分六类，（1）光谱干扰(Spectral Interference)、（2）火焰放射干扰(Flame Emission Interference)、（3）化学干扰(Chemical Interference)、（4）基质干扰(Matrix Interference)、（5）非特定性散射(Non-Specific Scatter)及（6）离子化干扰(Ionization Interference)。
    (1)光谱干扰：此干扰主要是样品中存在其它元素造成的干扰。此干扰近年来因中空阴极射线技术的提升已很少发生。
    (2)放射干扰：此干扰主要来自于样品放射出与欲吸收的波长相同。此干扰可藉由提高电流强度或降低狭缝宽度来解决。
     (3)化学干扰：此干扰最常发生于利用原子吸收来分析镁、钙、锶及钡等金属。最常见的干扰物种有硅酸盐、磷酸盐及铝酸盐等化合物。一般解决的方法有两种，一为利用螯合剂(EDTA)与金属错合，二为添加氯化镧与造成干扰的阴离子错合；或者可利用笑气-乙炔来解决化学干扰的问题。
    (4)基质干扰：一般此干扰原因有(a)溶液中含有机溶剂而造成吸收度的增加，(b)因溶液的黏滞性较高因雾化效率下降而造成吸收度下降，(c)溶液的盐度较高而造成吸收度下降。
    以上四种干扰可藉由标准添加法(Standard Addition)或是萃取法将金属自溶液中萃取出来或者改用其它的分析技术。
    (5)非特定性干扰：此干扰来自样品中含有高浓度的盐类，此情形最常发生于波长在250 nm以下，此干扰可用萃取技术及背景校正来克服。
    (6)离子化干扰：此干扰最常发生于低游离能元素，如碱金族及碱土族元素。解决的方法可在样品中加入比待测元素更容易解离的化合物，如分析钙时可添加1000 ppm的氯化钾溶液。